一种微纳光纤耦合器复合制造方法
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摘要
本发明提供一种微纳光纤耦合器复合制造方法，通过联合热熔融拉伸法和湿法刻蚀法，来实现对微纳光纤耦合器的转折点的精准调控；利用热拉伸将两根光纤融合在一起，快速拉伸实现微纳光纤耦合器的初步加工，熔融拉锥获得的光纤耦合器封装在一个流动池中；通过氢氟酸湿法腐蚀和在线光谱监测系统的联合方式实现微纳光纤耦合器的精确拉制，直至在光谱中出现设计波长处的转折点。本发明提出的加工方法对于未来基于光纤耦合器的传感系统具有阵列化、转折点可控、重复性好的特点，能够实现超低浓度的生物检测、气体检测以及压力检测等领域。
基本信息
专利标题 ：
一种微纳光纤耦合器复合制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112596174A
申请号 ：
CN202011623493.6
公开（公告）日 ：
2021-04-02
申请日 ：
2020-12-29
授权号 ：
CN112596174B
授权日 ：
2022-05-27
发明人 ：
周文超韦友莲吴一辉王越
申请人 ：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址 ：
吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
代理机构 ：
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
高一明
优先权 ：
CN202011623493.6
主分类号 ：
G02B6/42
IPC分类号 ：
G02B6/42 G02B6/255 G02B6/245
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/42
光波导与光电元件的耦合
法律状态
2022-05-27 ：
授权
2021-04-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/42
申请日 : 20201229
申请日 : 20201229
2021-04-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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