一种稳态液位浸镀槽
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摘要

本实用新型属于连续电镀线技术领域,尤其为一种稳态液位浸镀槽,包括槽体和侧板本体,所述槽体外侧的中部安装有上水口,且上水口的两侧连接有侧传输管,并且侧传输管的末端安装有泄压管本体,同时泄压管本体的下端开设有水管泄压孔,所述侧板本体安装在槽体的内侧,且侧板本体的下部开设有侧板分压孔,所述槽体的上部安装有内槽,所述支撑杆中部的外侧设置有连接框,所述连接杆的外侧安装有夹板,所述内槽的内侧设置有液位线。该稳态液位浸镀槽,设计了具有连续分压功能的结构,解决了传统装置液位波动较大,易造成电镀品质不良和制造成本加大的问题,同时设计了具有定位升降功能的结构,解决了传统装置不方便对加工件进行精确浸镀的问题。

基本信息
专利标题 :
一种稳态液位浸镀槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020084327.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-15
授权号 :
CN211713221U
授权日 :
2020-10-20
发明人 :
范世昌
申请人 :
昆山阿尔玛电子设备有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市周市镇宇龙路88号5号房
代理机构 :
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
吕明哲
优先权 :
CN202020084327.2
主分类号 :
C25D17/00
IPC分类号 :
C25D17/00  C25D21/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
法律状态
2020-10-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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