一种便于排水的基坑支护结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种便于排水的基坑支护结构，其包括排水沟，所述排水沟位于基坑底部且在基坑底部沿其边缘延伸设置，所述排水沟内还设有水池，所述水池在排水沟内向下凹陷设置，所述水池内设有水泵，所述水泵将水池内的水集中排出。本实用新型具有使集水槽流入排水沟内的水可快速集中收集在一处方便排出，提高排水的效率的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种便于排水的基坑支护结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020113064.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-17
授权号 ：
CN211873057U
授权日 ：
2020-11-06
发明人 ：
唐捷邓杰阮衡
申请人 ：
武汉正洪岩土工程有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区珞狮路248号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020113064.3
主分类号 ：
E02D19/06
IPC分类号 ：
E02D19/06 E02D19/08 E02D19/10
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D19/00
保持地下基础地段或其他面积的干燥
E02D19/06
地下水的节制
法律状态
2020-11-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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