终点检测装置和终点检测系统
授权
摘要

公开了一种终点检测装置和终点检测系统,用于检测刻蚀腔内的全光谱信号,终点检测装置包括传输组件、信号收集器和光谱收集器,传输组件与刻蚀腔连接,所述传输组件具有传输通道,信号收集器设置于传输通道内,光谱收集器与信号收集器连接,所述传输通道的长度大于所述刻蚀腔的腔壁厚度,信号收集器将接收的全光谱信号传输给光谱收集器并转化为多个不同的单色光谱信号,可以有效减少在信号收集器上聚集过多的副产物,提高收集光谱波长的准确性和稳定性。

基本信息
专利标题 :
终点检测装置和终点检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020137122.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-21
授权号 :
CN211238175U
授权日 :
2020-08-11
发明人 :
刘昕董伯辉孙启磊王玉王立
申请人 :
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址 :
天津市西青区西青经济开发区兴华道19号
代理机构 :
北京睿派知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘锋
优先权 :
CN202020137122.6
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-08-11 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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