一种EDI国产化应用系统
授权
摘要
本实用新型实施例公开了一种EDI国产化应用系统，具体涉及**领域，包括助镀液罐，所述助镀液罐侧表面固定设置有清洁件，所述助镀液罐上方固定连接有第一导管，所述第一导管一端设置有搅拌罐，所述搅拌罐一侧设置有氨水罐，且搅拌罐另一侧设置有双氧水罐，所述搅拌罐与氨水罐之间固定连接有第二导管，所述搅拌罐与双氧水罐之间固定连接有第三导管，所述搅拌罐下方设置有沉淀液管及上清液管。本实用新型通过整体设计，利用沉淀液管的可隔离特性，能够对除铁过程中产生的沉淀液和上清液进行分隔，避免了取走上清液时两者混合在一起导致检测结果产生偏差的现象，有效的提高了除铁的效率。
基本信息
专利标题 ：
一种EDI国产化应用系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020167973.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-12
授权号 ：
CN211546645U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
吕建来余素耘
申请人 ：
南京集鸿环保科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市浦口区万寿路15号南京工大科技产业园C1幢409室
代理机构 ：
北京国坤专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵红霞
优先权 ：
CN202020167973.5
主分类号 ：
C23C2/02
IPC分类号 ：
C23C2/02 C23C2/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2/00
用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺；其所用的设备
C23C2/02
待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域上镀覆
法律状态
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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