一种基于磁光效应的谐振腔结构及激光器
授权
摘要
本实用新型涉及一种基于磁光效应的谐振腔结构以及具有该谐振腔的激光器，基于磁光效应的谐振腔结构包括二呈间距设置的激光高反镜以及设置在二激光高反镜之间的偏振器件、磁场发生器和磁光材料体，所述磁场发生器对应磁光材料体，且所述磁场发生器产生的磁场在当前所处位置的振荡光束的传播方向上具有一定的分量，所述磁光材料体在磁场的作用下改变振荡光束的偏振方向，经磁光材料体改变偏振方向的振荡光束经偏振器件分离出继续在谐振腔内振荡放大的振荡光束和脱离谐振腔进行输出的输出光束。输出光束的强弱与磁场强度相关，通过改变磁场强度，就可以改变输出光束的透过率，且无需更换部件。
基本信息
专利标题 ：
一种基于磁光效应的谐振腔结构及激光器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020181396.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-18
授权号 ：
CN211320565U
授权日 ：
2020-08-21
发明人 ：
刘加梁林洪沂阮剑剑孙栋刘虹黄晓桦
申请人 ：
厦门理工学院
申请人地址 ：
福建省厦门市集美区后溪镇理工路600号
代理机构 ：
厦门市精诚新创知识产权代理有限公司
代理人 ：
汪万龙
优先权 ：
CN202020181396.5
主分类号 ：
H01S3/10
IPC分类号 ：
H01S3/10 H01S3/106 H01S3/08
法律状态
2020-08-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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