谐振腔结构
授权
摘要
本实用新型提供一种谐振腔结构，包括用于屏蔽磁场干扰的屏蔽罩、设置于所述屏蔽罩内的两线圈以及设置于所述屏蔽罩内的固定件，所述屏蔽罩为中空结构；两所述线圈呈螺旋状且两线圈同轴线旋转交错设置，两所述线圈一端均与外界电路连接，另一端均接地设置；所述固定件为绝缘体，所述固定件对应两所述线圈的弧型段开设有多个弧形槽，两所述线圈的部分结构设置于所述弧形槽中。本方案通过上述设置，能够稳定地固定住两个线圈，使其谐振稳定在一个频点，更好的满足工作需要，同时也能够使得整体的结构更加稳定牢固。
基本信息
专利标题 ：
谐振腔结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123280775.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-24
授权号 ：
CN216529298U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
付平崔恩楠周卓俊黄毛毛韩琢罗乐
申请人 ：
国开启科量子技术（北京）有限公司;启科量子技术（珠海）有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区西北旺东路10号院东区5号楼一层108
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123280775.3
主分类号 ：
H01P7/06
IPC分类号 ：
H01P7/06 G06N10/40
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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