一种纳米真空镀膜仪的斜切式观察窗
授权
摘要
本实用新型涉及一种纳米真空镀膜仪的斜切式观察窗，包括设置在真空镀膜仪的腔体(1)上的观察窗，所述观察窗包括用以观察样品台(2)的样品台观察窗(3)、观察蒸发源(4)的源材料观察窗(5)，所述样品台观察窗(3)、源材料观察窗(5)设置在腔体(1)的相对两侧，所述样品台观察窗(3)、源材料观察窗(5)均倾斜设置，从所述样品台观察窗(3)、源材料观察窗(5)入射的光线分别直接打在样品台(2)、蒸发源(4)开口处。本实用新型利于样品台表面或蒸发源开口处的直接观察，给生产或科研带来了很大的便利。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米真空镀膜仪的斜切式观察窗
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020211241.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-25
授权号 ：
CN211689226U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
丰叶
优先权 ：
CN202020211241.1
主分类号 ：
C23C14/52
IPC分类号 ：
C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/52
观察镀覆工艺的装置
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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