一种光声干涉显微成像装置
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种光声干涉显微成像装置，包括光源，光源前端依次设置有单色仪和分光棱镜，分光棱镜周围分别设置有参考光路、样品光路和面阵探测器，参考光路包括准直透镜一和反射镜，样品光路包括准直透镜二和平移台，面阵探测器电路连接有计算机终端。该装置可有效解决现有的成像装置存在的必须加入耦合介质才能进行探测，成像稳定性和重复性差，灵敏度低的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种光声干涉显微成像装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020216094.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-26
授权号 ：
CN211553729U
授权日 ：
2020-09-22
发明人 ：
谭吉川蒋文波于小雨廖官根
申请人 ：
西华大学
申请人地址 ：
四川省成都市金牛区土桥金周路999号
代理机构 ：
成都正华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
李蕊
优先权 ：
CN202020216094.7
主分类号 ：
G01N21/17
IPC分类号 ：
G01N21/17 G01N21/45
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
法律状态
2022-02-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G01N 21/17
申请日 : 20200226
授权公告日 : 20200922
终止日期 : 20210226
申请日 : 20200226
授权公告日 : 20200922
终止日期 : 20210226
2020-09-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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