清洗系统

授权

摘要

本实用新型公开了一种清洗系统，涉及显示技术领域，包括用于转移掩模板的载具、用于转移载具的移载装置、用于清洗掩模板的清洗装置和控制装置，控制装置包括用于检测清洗液信息的检测器、用于记录掩膜板清洗时间的时间控制器和驱动器，检测器设置于清洗装置上，驱动器用于根据检测器反馈的清洗液信息和时间控制器反馈的掩膜板清洗时间信息，控制移载装置转移载具。本实用新型实施例的驱动器根据时间控制器反馈的掩膜板清洗时间信息以及检测器反馈的清洗液的信息，控制移载装置按照工序转移载具，提升掩膜板的清洗效率，提高了清洗效果。

基本信息

专利标题：

清洗系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020298486.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-11

授权号：

CN212397465U

授权日：

2021-01-26

发明人：

郭萌李永强周丽佳杨晓董小龙王志东杨伟刘鑫邢邦丽

申请人：

京东方科技集团股份有限公司;中国科学院光电技术研究所光学元件厂

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京安信方达知识产权代理有限公司

代理人：

解婷婷

优先权：

CN202020298486.2

主分类号：

B08B3/10

IPC分类号：

B08B3/10 B08B3/12 B08B3/08 B08B3/14 B08B13/00