基板清洗系统
授权
摘要
根据一个实施例的基板清洗系统，可包括：腔室部，其用于对基板进行清洗工艺；排气部，其将腔室部内部空气向外部排出；移送部，其配备于腔室部的外侧，将基板装载或卸载至腔室部；以及控制部，在腔室部开放前，所述控制部控制排气部的排气压，从而使得腔室部及移送部间的压力差减小。
基本信息
专利标题 ：
基板清洗系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122022993.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-08-26
授权号 ：
CN216563022U
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
金炯剟郑有善
申请人 ：
凯斯科技股份有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道安城市
代理机构 ：
北京冠和权律师事务所
代理人 ：
朱健
优先权 ：
CN202122022993.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
