一种基板清洗头及基板清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种基板清洗头及基板清洗装置,该基板清洗头包括:具有一定厚度的圆盘状基座及同心连接于所述基座下表面的圆形清洁垫,所述基座沿厚度方向具有多个流体通道,所述清洁垫具有多个通孔,每个通孔耦合至不同的流体通道,使得清洗液可经由所述多个通孔中的一部分喷射至基板表面并在与污染物结合后经由另一部分通孔吸走;所述清洁垫的截面半径小于所述基座的截面半径,所述基座的外周侧设置有斜向贯通的冲洗通道,使得冲洗液可通过冲洗通道的上方端口及冲洗通道经由位于清洁垫外侧的下方端口流出,以去除附着于清洁垫外周侧的污染物。
基本信息
专利标题 :
一种基板清洗头及基板清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920764827.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-24
授权号 :
CN211160882U
授权日 :
2020-08-04
发明人 :
赵德文李长坤蒋阳波刘远航路新春
申请人 :
清华大学
申请人地址 :
北京市海淀区清华园1号
代理机构 :
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 :
张建纲
优先权 :
CN201920764827.8
主分类号 :
B08B3/02
IPC分类号 :
B08B3/02 B08B3/10 B08B5/04 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2020-08-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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