陶瓷基板清洗托盘
授权
摘要
本实用新型公开了陶瓷基板清洗托盘,包括第一托盘外框、调节螺丝、基板边架和基板托架,所述第一托盘外框的一端固定连接有第一托盘外框挡块,所述第一托盘外框挡块设置在第二托盘外框的内侧。本实用新型设置陶瓷基板清洗托盘可调节成与陶瓷基板前处理清洗机清洗腔室嵌合的尺寸,贴合清洗腔室设计,可轻易放入清洗腔室,并保证清洗腔室空间的最大有效利用;本实用新型基板边架与托架卡块的配合设置,可有效分离放置的陶瓷基板,保证陶瓷基板的间隔的情况下,起到固定陶瓷基板的作用,且基板边架可采用螺丝手动调节,可以根据陶瓷基板长宽度进行适当的尺寸调节,在保证足够表面清洗空间的情况下,保证了陶瓷基板在清洗过程当中的稳定性。
基本信息
专利标题 :
陶瓷基板清洗托盘
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021905464.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-02
授权号 :
CN212725269U
授权日 :
2021-03-16
发明人 :
乔利杰宋述兵王瑞俊王博
申请人 :
山东司莱美克新材料科技有限公司
申请人地址 :
山东省淄博市桓台县果里镇创智谷B5一层
代理机构 :
淄博市众朗知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
程强强
优先权 :
CN202021905464.4
主分类号 :
H01L21/683
IPC分类号 :
H01L21/683 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2021-03-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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