一种清洗彻底的陶瓷基板清洗装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种清洗彻底的陶瓷基板清洗装置，包括功能座，功能座顶端的中间位置设有与其相配合的壳体，壳体内部的底端设有若干与壳体配合的支撑座，支撑座顶端的两侧均设有与功能座相配合的声波震动器，支撑座的内部对称设有若干均匀分布的升降杆，两两升降杆的顶端设有与其相配合的升降架，升降架的内部设有滑槽，滑槽的内部设有与其相配合的清洗架，清洗架的顶端设有若干均匀分布的限位支撑杆，壳体的顶端设有触发配合箱，触发配合箱的内部设有若干均匀分布的水泵，水泵的底端设有与其相配合的喷淋管。有益效果为：有效的保证了设备在整个使用期间，能够进行多次多种方式的清洗模式，从而使设备更加实用。

基本信息

专利标题：

一种清洗彻底的陶瓷基板清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020882233.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-25

授权号：

CN212168377U

授权日：

2020-12-18

发明人：

陈月光桑士宝祖丕恒史德军

申请人：

山东同方鲁颖电子有限公司

申请人地址：

山东省临沂市沂南县城金波路21号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202020882233.X

主分类号：

B08B3/12

IPC分类号：

B08B3/12 B08B3/02 B08B13/00