基板清洗系统
授权
摘要

本实用新型提供了一种基板清洗系统,其包括:用于水平输送基板的下输送装置及上输送装置、升降装置、沿下输送装置依次设置的对基板进行清洗的等离子清洗装置、第一水洗装置、超高压微喷射清洗装置及对基板进行风干的风干装置,所述升降装置用于将基板从下输送装置转移至上输送装置,上输送装置及下输送装置上下对应设置且输送方向相反。本实用新型的清洗系统通过将等离子清洗装置及超高压微喷射清洗装置与普通清洗装置进行组合,然后与上下输送装置结合,对基板进行多次清洗,使得清洗效果大大增强,进而提高了产品的质量。

基本信息
专利标题 :
基板清洗系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021701823.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-17
授权号 :
CN213051884U
授权日 :
2021-04-27
发明人 :
史延锋史延库
申请人 :
苏州盟萤电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市周市镇康庄路148号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021701823.4
主分类号 :
B08B7/00
IPC分类号 :
B08B7/00  B08B11/00  B08B1/02  B08B3/02  B08B3/08  B08B5/00  B08B13/00  B65G49/06  F26B21/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2021-04-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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