本实用新型公开了一种真空玻璃基板清洗系统，用于对丝印前的真空玻璃基板进行清洗，其特征在于，包括机架、运动装置和等离子体清洗装置。所述运动装置和所述等离子体清洗装置均设置在机架上；所述运动装置包括传输机构、定位机构；所述等离子体清洗装置包括等离子体发生装置以及等离子体喷嘴，所述等离子体清洗装置可在所述机架上运动；本实用新型通过对于待丝印的真空玻璃基板采用等离子体表面清洗技术可以对玻璃表面有机物大分子的化学键进行破坏，以提高玻璃表面的活性和粘结性，提升印刷物的附着效果，同时该技术只涉及材料表面，不影响玻璃基板的物理和化学性能。