材料缺陷检测投影光学系统、卷材和片材的缺陷检测装置

授权

摘要

本实用新型公开了材料缺陷检测投影光学系统、卷材和片材的缺陷检测装置，所述材料缺陷检测投影光学系统至少包括：光源组件，包括至少一个光源，光源位于待测物的一侧，用于向待测物投射光线；背景组件，包括一个背景板，背景板位于待测物的另一侧且与待测物平行放置，背景板朝向待测物的一面涂覆有漫反射层，光源投射的光线透过待测物使待测物成像在背景板上；相机组件，包括至少一个工业相机，工业相机的镜头指向背景板上光源投射光线与待测物的交汇区域，用于拍摄待测物在背景板上的成像。本实用新型使得检测能够更加完善和全面。

基本信息

专利标题：

材料缺陷检测投影光学系统、卷材和片材的缺陷检测装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020303410.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-12

授权号：

CN211785064U

授权日：

2020-10-27

发明人：

程岩柯林旭陆哲

申请人：

杭州利珀科技有限公司

申请人地址：

浙江省杭州市临安区青山湖街道大园路723号越秀星汇中心20层2001室

代理机构：

杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘艳艳

优先权：

CN202020303410.4

主分类号：

G01N21/01

IPC分类号：

G01N21/01 G01N21/958