一种三维电离室结构及射线检测系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种三维电离室结构及射线检测系统，该三维电离室结构通过在层叠设置的多个载体上设置电离室，多个载体在组成电离室结构后使得电离室形成任意的立体三维形状，相对现有的表面插装式的三维射线结构，本三维电离室结构可在不同深度设置电离室，从而形成真正的空间三维结构，使得电离室能固定在载体的不同深度位置上进而实现真正的空间分布，避免以表面数据或单一深度数据进行推演修正而产生的缺陷。同时这一载体设置方式不会限制电离室的数量，能更好贴合弧形的表面，极好改善现有三维探测设备角度响应差的问题，同时其层叠设计的载体结构更便于工业上的批量化生产，有利于提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种三维电离室结构及射线检测系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020307817.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-12
授权号 ：
CN211979209U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
陈立新胡强钱豪雷强林益民
申请人 ：
广州瑞多思医疗科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区科学大道33号自编五栋401（部位：401、403、405、407房）
代理机构 ：
广州新诺专利商标事务所有限公司
代理人 ：
李小林
优先权 ：
CN202020307817.4
主分类号 ：
G01T1/185
IPC分类号 ：
G01T1/185
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/16
辐射强度测量
G01T1/185
用电离室装置
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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