暗室装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种暗室装置，包括：可开门式暗箱，设置于产品治具模块上方，以便与产品治具模块的顶部贴合；风琴罩，连接至所述可开门式暗箱的顶部，并对可开门式暗箱的侧面进行遮挡；固定暗箱，连接至所述风琴罩的顶部，以对可开门式暗箱的顶部进行遮挡；以及升降机构，安装于所述固定暗箱并与所述可开门式暗箱的顶部连接，以带动所述可开门式暗箱升降；其中，所述可开门式暗箱包括：箱体、设在所述箱体一侧的开关门以及设置在所述箱体的底部的密封圈，其中，所述可开门式暗箱的门框上设置吸附件，以吸附所述开关门，避免漏光。本实用新型采用可开门式暗箱并在可开门式暗箱上设置密封圈和吸附件，从而保证整个可开门式暗箱的密封性。

基本信息

专利标题：

暗室装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020368095.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-20

授权号：

CN211784205U

授权日：

2020-10-27

发明人：

郭海风

申请人：

苏州华兴源创科技股份有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市工业园区港田路青丘街青丘巷8号

代理机构：

代理人：

优先权：

CN202020368095.3

主分类号：

G01M11/02

IPC分类号：

G01M11/02