一种约束基坑围护结构水平位移的反压体系

授权

摘要

本实用新型提供了一种约束基坑围护结构水平位移的反压体系，涉及岩土工程中的基坑施工领域，通过设置钢支架、PVC加筋水囊和限位块；所述钢支架设在基坑坑底；所述钢支架底部的横梁外侧边通过定位块限位，用于实现所述钢支架外侧水平方向的限位；所述钢支架的立柱与围护结构外侧间距对应设置；所述PVC加筋水囊设在所述立柱和围护结构之间；所述PVC加筋水囊下端设在所述横梁的内侧边上。本申请在实际运用过程中，占地小，稳定性高，反压高度大，反压荷载大，施工简便、快捷，经济实用，适用范围广，适合广泛推广。

基本信息

专利标题：

一种约束基坑围护结构水平位移的反压体系

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020410958.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-27

授权号：

CN211873035U

授权日：

2020-11-06

发明人：

曹新刚丁飞刘畅张雨薇

申请人：

中煤第三建设（集团）有限责任公司

申请人地址：

安徽省宿州市汴河西路215号

代理机构：

合肥兴东知识产权代理有限公司

代理人：

胡东升

优先权：

CN202020410958.9

主分类号：

E02D17/04

IPC分类号：

E02D17/04