等离子体反应器
授权
摘要
一种等离子体反应器包括：反应腔，其内底部设导电基座，导电基座通过第一匹配器电路连到第一射频电源装置，导电基座上设静电夹盘，静电夹盘吸附待处理基片，待处理基片上为等离子体环境；插入环，围绕在导电基座外围，其内侧壁与导电基座的外侧壁之间的间隙大于0.02毫米小于10毫米；聚焦环，设在插入环上方，聚焦环围绕静电夹盘且暴露于等离子体环境中；耦合环，设置在所述插入环的下方，且环绕于所述导电基座的外围；设备板，位于导电基座下方；导线，其第一端电连接到导电基座或者设备板，其第二端电连接到插入环，可变阻抗装置串联在导线上。所述等离子体反应器中聚焦环上方的射频可调且能降低发生电弧放电的现象。
基本信息
专利标题 ：
等离子体反应器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020468751.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-02
授权号 ：
CN211350572U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
左涛涛吴狄
申请人 ：
中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
代理机构 ：
上海元好知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐雯琼
优先权 ：
CN202020468751.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/66 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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