适用于高填方人工地基的防滑坡结构
授权
摘要
本实用新型涉及用于高填方人工地基顺坡的防滑坡加固结构，具体为一种适用于高填方人工地基的防滑坡结构，解决了背景技术中的技术问题，其包括沿原地基土顺坡的坡顶到坡底竖直向下挖设的数排槽体，槽体深度至少为1.5m，槽体的两侧壁上均铺设有加固钢筋网，加固钢筋网伸出原地基土顺坡填筑面并插入填筑土体的高度至少为2m，同一槽体的两加固钢筋网之间填充有回填压实填筑土体。该防滑坡结构设置在原地基土和填筑土体之间，顺利解决了顺坡填筑高填方的滑移问题，具有理念上的突破，有效保证高填方人工地基整体稳定，与传统坡脚加固方式结合使用,防滑坡效果更加突出。
基本信息
专利标题 ：
适用于高填方人工地基的防滑坡结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020477692.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-03
授权号 ：
CN212077978U
授权日 ：
2020-12-04
发明人 ：
孙静苑葛忻声
申请人 ：
太原理工大学
申请人地址 ：
山西省太原市迎泽西大街79号太原理工大学
代理机构 ：
太原科卫专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
朱源
优先权 ：
CN202020477692.X
主分类号 ：
E02D17/20
IPC分类号 ：
E02D17/20
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/20
边坡或斜坡的稳定
法律状态
2020-12-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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