一种高储能密度电容器用安全型金属化薄膜
授权
摘要
本实用新型涉及金属化薄膜技术领域，尤其涉及一种高储能密度电容器用安全型金属化薄膜。包括基膜，所述基膜的一个表面镀附有金属层，所述金属层的宽度比基膜的宽度小，所述金属层的一端与基膜的一端齐平，所述金属层的另一端与基膜之间形成留边区，所述金属层的上表面在远离留边区的一端镀附有加厚区，所述金属层的上表面等间隔镀附有多个导流区，所述导流区的一端与加厚区结合在一起，所述导流区的另一端与金属层靠近留边区的一端齐平。本实用新型金属层的厚度较小，当金属层的某一点击穿时，击穿处的金属层瞬间蒸发，从而不会影响周围的膜层的正常工作，电容器的容量和储能密度降低的幅度比分割电极式的小很多。
基本信息
专利标题 ：
一种高储能密度电容器用安全型金属化薄膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020515019.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-12
授权号 ：
CN211604931U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
张志成胡习光
申请人 ：
无锡鑫聚电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市江阴市金山路201号创智产业园数码港B座3楼西
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020515019.0
主分类号 ：
H01G4/33
IPC分类号 ：
H01G4/33 H01G4/005
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器；电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G4/00
固定电容器；及其制造方法
H01G4/33
薄膜或厚膜电容器
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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