一种高储能密度电容器用安全型金属化薄膜
授权
摘要
本实用新型涉及金属化薄膜技术领域,尤其涉及一种高储能密度电容器用安全型金属化薄膜。包括基膜,所述基膜的一个表面镀附有金属层,所述金属层的宽度比基膜的宽度小,所述金属层的一端与基膜的一端齐平,所述金属层的另一端与基膜之间形成留边区,所述金属层的上表面在远离留边区的一端镀附有加厚区,所述金属层的上表面等间隔镀附有多个导流区,所述导流区的一端与加厚区结合在一起,所述导流区的另一端与金属层靠近留边区的一端齐平。本实用新型金属层的厚度较小,当金属层的某一点击穿时,击穿处的金属层瞬间蒸发,从而不会影响周围的膜层的正常工作,电容器的容量和储能密度降低的幅度比分割电极式的小很多。
基本信息
专利标题 :
一种高储能密度电容器用安全型金属化薄膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020515019.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-12
授权号 :
CN211604931U
授权日 :
2020-09-29
发明人 :
张志成胡习光
申请人 :
无锡鑫聚电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市江阴市金山路201号创智产业园数码港B座3楼西
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020515019.0
主分类号 :
H01G4/33
IPC分类号 :
H01G4/33 H01G4/005
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器;电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G4/00
固定电容器;及其制造方法
H01G4/33
薄膜或厚膜电容器
法律状态
2020-09-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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