一种真空离子氮化设备上的防护结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种真空离子氮化设备上的防护结构，其包括放置平台，放置平台与放置架相邻设置，放置平台用于放置被吊起的盖体；放置平台上设置有用于限制盖体水平移动的防护组件。本实用新型具有能够为盖体提供一个稳定的放置位置、使得盖体不易掉落砸伤人的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种真空离子氮化设备上的防护结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020554332.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-14
授权号 ：
CN211947195U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
朱喆赵睿杨丽琳张彦峰梁兰
申请人 ：
深圳市和胜金属技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道塘尾社区粤宝工业区C区5号
代理机构 ：
北京维正专利代理有限公司
代理人 ：
任志龙
优先权 ：
CN202020554332.5
主分类号 ：
C23C8/36
IPC分类号 ：
C23C8/36
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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