掺金离子镀氮化钛技术及设备
专利申请的视为撤回
摘要
掺金离子镀氮化钛技术及设备属于真空离子镀技术领域。本发明的目的在于提供一种新的，低成本，高质量的掺金氮化钛镀膜方法。镀黄金制品成本高，不耐磨。一般仿金制品效果差，且不耐磨，氮化钛仿金耐磨但发青色与黄金色有区别。本发明利用离子镀技术实现氮化钛掺金，膜层有黄金一样的光泽，还具有一定耐磨性能。
基本信息
专利标题 ：
掺金离子镀氮化钛技术及设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1053645A
申请号 ：
CN90100341.7
公开（公告）日 ：
1991-08-07
申请日 ：
1990-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田大准周以仁汪小平田美风刘振忠
申请人 ：
机械电子工业部北京机械工业自动化研究所
申请人地址 ：
100011北京市德外教场口一号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN90100341.7
主分类号 ：
C23C14/14
IPC分类号 ：
C23C14/14 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
法律状态
1995-12-27 ：
专利申请的视为撤回
1993-12-22 ：
实质审查请求的生效
1991-08-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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