用于检测光源均匀性的检测系统

授权

摘要

本申请提供一种用于检测光源均匀性的检测系统，该检测系统包括：荧光部件、滤光部件、摄像部件、处理部件及显示部件；荧光部件接受待测光源发射的光波，以激发荧光物质发射荧光辐射；滤光部件使荧光辐射通过，而使待测光源发射的光波过滤；摄像部件感应所述荧光辐射，生成对应的光谱图像，并将所述光谱图像发送至处理部件；处理部件对获取到的光谱图像进行处理分析，依据所述光谱图像中不同位置的荧光辐射强度，判断待测光源的均匀性是否合格，显示部件显示光谱图像和判断结果。本方案，通过检测光源投射荧光物质后激发的光谱亮度，可以有效的快速检测光源的均匀性，同时可以克服光源亮度高造成的CCD相机饱和等现象。

基本信息

专利标题：

用于检测光源均匀性的检测系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020571819.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-16

授权号：

CN212539575U

授权日：

2021-02-12

发明人：

颜博霞亓岩王延伟韩哲范元媛王宇

申请人：

中国科学院微电子研究所

申请人地址：

北京市朝阳区北土城西路3号

代理机构：

北京辰权知识产权代理有限公司

代理人：

付婧

优先权：

CN202020571819.4

主分类号：

G01M11/02

IPC分类号：

G01M11/02 G01J1/42