一种斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构
授权
摘要
本实用新型提供了一种斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构，属于光电技术领域。本复合结构包括若干电介质层一、若干电介质层二和一个石墨烯层，复合结构由其一侧面至另一侧面的堆叠规律如下：电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、石墨烯层、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二；电介质层一的材料为MgF2晶体，电介质层二的材料为ZnS晶体。本实用新型具有提高缺陷模的反射率等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020623495.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-23
授权号 ：
CN211603802U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
章普
申请人 ：
湖北科技学院
申请人地址 ：
湖北省咸宁市咸安区咸宁大道88号
代理机构 ：
咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
汪彩彩
优先权 ：
CN202020623495.4
主分类号 ：
G02F1/355
IPC分类号 ：
G02F1/355 G02B1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/19
•• G02F1/015至G02F1/167不包括的基于可变的反射或折射元件的
G02F1/35
非线性光学
G02F1/355
以所用材料为特征的
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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