一种纳米硅粉生产用设备清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种纳米硅粉生产用设备清洗装置，包括清洗机构，所述清洗机构的下端外表面设置有清洗装置外壳底座，所述清洗装置外壳底座的下端外表面设置有滑轮，所述清洗机构的一侧外表面设置有水泵，所述清洗机构的另一侧外表面设置有污水收集装置，所述清洗机构的上端外表面设置有出水管，所述出水管的上端外表面设置有一号盖帽，所述污水收集装置的内表面设置有杂污分离装置，所述杂污分离装置的上端外表面设置有把手与进水管，所述把手位于进水管的一侧，所述进水管的上端外表面设置有二号盖帽。本实用新型所述的一种纳米硅粉生产用设备清洗装置，设有杂污分离装置，便于设备对污杂的分离，使人们使用的效果越来越好。
基本信息
专利标题 ：
一种纳米硅粉生产用设备清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020627639.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-23
授权号 ：
CN212576973U
授权日 ：
2021-02-23
发明人 ：
邓咏兰
申请人 ：
福州胜澳能源材料科技有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市仓山区金山工业区金洲北路7号第3号楼厂房二层
代理机构 ：
合肥律众知识产权代理有限公司
代理人 ：
殷娟
优先权 ：
CN202020627639.3
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00 C02F9/02 C01B33/021 B82Y40/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-02-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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