一种带有凸起结构的化学机械抛光垫
授权
摘要
本实用新型公开了一种带有凸起结构的化学机械抛光垫，包括：抛光垫基板和均匀分布设置在所述抛光垫基板上的若干凸起，相邻的两所述凸起间隔设置形成有沟槽；每一所述凸起的顶面呈内凹球面或外凸球面设置；所述内凹球面或所述外凸球面的半径小于所述凸起的高度。本实用新型技术方案利用凸起顶部的内凹球面或者外凸球面以增加抛光垫有效面积，提高材料去除效率；凸起之间的沟槽利于抛光液均匀分配和流动。
基本信息
专利标题 ：
一种带有凸起结构的化学机械抛光垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020630116.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-23
授权号 ：
CN211992444U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
朱文献
申请人 ：
昂士特科技（深圳）有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201
代理机构 ：
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 ：
梁炎芳
优先权 ：
CN202020630116.4
主分类号 ：
B24B37/26
IPC分类号 ：
B24B37/26
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/11
研具
B24B37/20
用于加工平面的研磨垫
B24B37/26
以研磨垫表面的形状为特征，如带有槽的
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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