气体分布台和悬浮传动装置
授权
摘要
本实用新型公开一种气体分布台和悬浮传动装置，其中，所述气体分布台包括本体和多个传动辊，所述本体设有多个原子层沉积单元，每一所述原子层沉积单元设有扩散孔，每一所述传动辊设于相邻的两个所述原子层沉积单元之间，所述传动辊突出所述原子层沉积单元的槽口所在平面；或，所述气体分布台包括多个子台体和多个传动辊，每一所述子台体设有多个原子层沉积单元，每一所述原子层沉积单元内设有扩散孔，每一所述传动辊设于相邻的两个所述子台体之间，所述传动辊突出所述原子层沉积单元的槽口所在平面。本实用新型技术方案隔开气体分布台和沉积基材，避免待沉积基材膜划损，从而降低废品率。
基本信息
专利标题 ：
气体分布台和悬浮传动装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020682301.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212103001U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
李哲峰乌磊聆领安辛
申请人 ：
深圳市原速光电科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
郭春芳
优先权 ：
CN202020682301.8
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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