一种提升爬电距离的叠层母排结构
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及层叠母排技术领域,尤其涉及一种提升爬电距离的叠层母排结构,解决了现有技术中在缩小母排面积后,会导致母排表面电子元器件过于密集,电子元器件之间可能会发生短路等故障,影响电子元器件和母排的正常工作的问题。一种提升爬电距离的叠层母排结构,包括母排板体,母排板体的表面开设有若干个接线孔,每纵排两个接线孔的表面设有隔绝组件,其中,隔绝组件包括两个呈对称分布的分隔部以及位于两个分隔部之间的安装部。本实用新型在增大电子元器件电极之间的爬电距离的前提下,还可以隔绝电子元器件,防止电子元器件之间发生短路等故障,进而保证电子元器件之间和母排的正常工作。

基本信息
专利标题 :
一种提升爬电距离的叠层母排结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020752806.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-09
授权号 :
CN211579037U
授权日 :
2020-09-25
发明人 :
黄理龙余平张超叶婉琳
申请人 :
黄理龙
申请人地址 :
浙江省衢州市柯城区航埠镇陈村坞村1号
代理机构 :
滁州创科维知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王豫川
优先权 :
CN202020752806.7
主分类号 :
H01R13/40
IPC分类号 :
H01R13/40  H01R25/16  H01R13/631  
法律状态
2022-04-15 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01R 13/40
申请日 : 20200509
授权公告日 : 20200925
终止日期 : 20210509
2020-09-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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