一种提高边缘通道响应的X光探测器
授权
摘要

一种提高边缘通道响应的X光探测器,所述X光探测器由闪烁体和探测器芯片组成;所述闪烁体包括一维闪烁体、二维闪烁体,所述一维闪烁体由若干个闪烁体通道组成一维阵列,所述二维闪烁体由若干个闪烁体通道组成二维阵列;所述闪烁体通道包括边缘通道、中间通道,所述边缘通道设置在闪烁体两侧边缘,每个中间通道等距离设置在边缘通道之间;每个所述中间通道的闪烁体体积和尺寸都相同,所述边缘通道的闪烁体体积大于中间通道5%‑50%。本实用新型所述的提高边缘通道响应的X光探测器,结构设计合理,通过对探测器芯片和闪烁体边缘通道的设计,提高边缘通道的光响应,增加边缘通道的信号,提高不同通道之间信号的一致性,提高成像质量,应用前景广泛。

基本信息
专利标题 :
一种提高边缘通道响应的X光探测器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020786290.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-13
授权号 :
CN212341470U
授权日 :
2021-01-12
发明人 :
孙磊刘柱王伟
申请人 :
奕瑞新材料科技(太仓)有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市太仓港经济技术开发区兴港路33号
代理机构 :
苏州市方略专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘纯
优先权 :
CN202020786290.8
主分类号 :
G01T1/202
IPC分类号 :
G01T1/202  H01L31/115  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/16
辐射强度测量
G01T1/20
用闪烁探测器
G01T1/202
闪烁体是晶体的
法律状态
2021-01-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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