一种可减少裂纹产生的框架结构填充墙
授权
摘要
本实用新型涉及一种可减少裂纹产生的框架结构填充墙，包括墙体，所述墙体包括多组竖直立于屋内的基板，每组两块所述基板之间形成定位孔，所述墙体还包括多块插接于所述定位孔的砖块，所述砖块两端各设置有两块连接块，所述连接块抵接于所述基板两端面，相邻两组所述基板上的所述连接块相抵接。本实用新型具有减少裂纹产生等特点。
基本信息
专利标题 ：
一种可减少裂纹产生的框架结构填充墙
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020796093.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-13
授权号 ：
CN212866438U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
杨鹏斌沈志荣乐连欢金晓耿吴地永张堃垚彭方毅
申请人 ：
浙江新中源建设有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市鄞州区姜山镇科技园区东一路04号1-1
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020796093.4
主分类号 ：
E04B2/00
IPC分类号 ：
E04B2/00 E04B2/74 E04B2/82 E04B2/12 E04C1/00 E04C1/39 E04C5/04
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04B
一般建筑物构造；墙，例如，间壁墙；屋顶；楼板；顶棚；建筑物的隔绝或其他防护
E04B2/00
建筑物的墙，例如，间壁墙；隔绝墙的构造；专门用于墙的连接
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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