一种晶振片自动切换系统
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摘要
本实用新型涉及检测技术领域，具体涉及一种晶振片自动切换系统，包括：监测位，监测位适于设置与膜厚监控仪相连的连接端子；加热位，加热位上设有加热装置；承载结构，其上至少设有第一晶振片放置位、第二晶振片放置位，第一晶振片放置位、第二晶振片放置位均适于与连接端子连接，第一晶振片放置位或第二晶振片放置位与监测位相对并与连接端子相连时，第二晶振片放置位或第一晶振片放置位与加热位相对；驱动装置，用于驱动承载结构运动。加热后，晶振片上沉积的有机材料蒸发，驱动装置可驱动承载结构运动，晶振片可再次随晶振片放置位移动到与监测位相对的位置处，晶振片可重复使用，能够有效减少晶振片的使用数量，降低成本。
基本信息
专利标题 ：
一种晶振片自动切换系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020855738.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-20
授权号 ：
CN212610885U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
程清刘必林陈晓玉
申请人 ：
苏州清越光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市高新区晨丰路188号
代理机构 ：
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 ：
康艳艳
优先权 ：
CN202020855738.7
主分类号 ：
C23C14/54
IPC分类号 ：
C23C14/54 C23C14/24 G01B7/06
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/54
镀覆工艺的控制或调节
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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