一种片状镀件挂具
授权
摘要
本实用新型涉及一种片状镀件挂具，包括支撑板，所述支撑板设有连接孔，所述支撑板设有若干挂杆，若干所述挂杆圆周均布于所述支撑板上，所述挂杆背向所述支撑板的一端设有挂环，所述挂环设有两个定位角，两个所述定位角的水平高度低于所述挂杆，两个所述定位角不与所述挂杆接触，所述挂杆朝向所述连接孔的圆心，所述挂杆设有折弯头，所述折弯头与所述挂杆垂直，所述挂环位于所述折弯头上，所述挂环为菱形，所述挂环的一个角在所述挂杆的端面上，两个所述定位角互为对角。本实用新型提供了一种使片状镀件镀膜更加充分的挂具。
基本信息
专利标题 ：
一种片状镀件挂具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020885589.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-22
授权号 ：
CN212247198U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
金武磊
申请人 ：
温州华弘真空科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省温州市瓯海区仙岩街道沈东路148号(第4幢第2层西首)
代理机构 ：
温州匠心专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
姜莹
优先权 ：
CN202020885589.9
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50
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IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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