用于流体的连续喷射的微流体设备和系统

授权

摘要

本公开的各实施例涉及用于流体的连续喷射的微流体设备和系统。一种微流体设备，包括：横向界定腔室的半导体主体；形成膜的中间结构，每个膜在顶部界定对应腔室；以及覆盖中间结构的喷嘴主体。对于每个腔室，设备包括：对应的压电致动器；穿过中间结构并且与腔室连通的供应通道；以及穿过喷嘴主体并且与供应通道连通的喷嘴。每个致动器可以被控制以便：i)在静止状况下操作，以使对应腔室内的流体的压力等于如下值：以便流体穿过供应通道并且以连续流的形式从喷嘴中喷射；ii)在活动状况下操作，在活动状况中，它引起对应膜的变形，并且引起流体的压力的随之而来的变化，从而引起连续流的暂时中断。提供了喷嘴堵塞的风险低的微流体设备。

基本信息

专利标题：

用于流体的连续喷射的微流体设备和系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020895044.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-25

授权号：

CN213353952U

授权日：

2021-06-04

发明人：

D·朱斯蒂A·N·科莱基亚G·桑托鲁沃

申请人：

意法半导体股份有限公司

申请人地址：

意大利阿格拉布里安扎

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

董莘

优先权：

CN202020895044.6

主分类号：

B41J2/14

IPC分类号：

B41J2/14