一种具有凹槽结构的气缸盖模具

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摘要

本实用新型公开了一种具有凹槽结构的气缸盖模具，包括底模、前模、后模、左模、右模，底模位于模具的下方，左模、右模、前模和后模通过滑道在底模上进行开合，形成气缸盖燃烧室及水套芯、气道芯的定位，前模、后模、左模和右模形成气缸盖的外表形状，前模上设置有凹槽结构。本实用新型通过在前模上设置凹槽结构，破坏金属液的表面张力，使金属液与前模模具在凹槽处形成浸润，实现金属液对前模的顺利充填，有效降低气缸盖产生欠铸缺陷的机率，提高气缸盖生产的合格率。因此，具有很强的实用性。

基本信息

专利标题：

一种具有凹槽结构的气缸盖模具

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020910486.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-05-27

授权号：

CN212285791U

授权日：

2021-01-05

发明人：

朱民林立涛

申请人：

沈阳广宇金属制品有限公司

申请人地址：

辽宁省抚顺市沈抚新区中兴街以东沈东八路以北地块

代理机构：

北京智宇正信知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

于理科

优先权：

CN202020910486.3

主分类号：

B22C9/22

IPC分类号：

B22C9/22 B22C9/06