一种石英晶体无损清洗装置
授权
摘要
本实用新型涉及石英晶体、电子元件制造装置领域,具体为一种石英晶体无损清洗装置。包括清洗池,其特征是:所述清洗池底部设置至少1个微波清洗发生器或震荡清洗发生器,微波清洗发生器或震荡清洗发生器上放置设置清洗盛盆,清洗盛盆内设置至少1个清洗盛框,清洗盛框内放置设置扣卡列板,扣卡列板插扣设置若干晶体放置阵列板;所述清洗盛盆底部镂空设置进水清洗口,进水清洗口盖合微波清洗发生器或震荡清洗发生器,使得凸起设置的微波清洗发生器或震荡清洗发生器进入清洗盛盆的盆腔体内。清洗控制能力强,所以在清洗的时候可以尽量做到无损清洗;拥有过滤槽的过滤和吸附能力,能吸附和过滤清洗出来的杂质微粒。
基本信息
专利标题 :
一种石英晶体无损清洗装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020984460.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-02
授权号 :
CN212976102U
授权日 :
2021-04-16
发明人 :
李杰陈全根叶国萍
申请人 :
汇隆电子(金华)有限公司
申请人地址 :
浙江省金华市经济开发区工业园区汇隆电子(金华)有限公司
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020984460.3
主分类号 :
B08B3/10
IPC分类号 :
B08B3/10 B08B3/12 B08B3/14 B08B13/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的,如用加热,电力,振动
法律状态
2021-04-16 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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