一种碲电解沉积装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种碲电解沉积装置，包括设置在同一水平面的配液釜、电解槽和位于低位的循环槽，电解槽上设置有导电铜排，配液釜和电解槽分别通过溢流管与循环槽连接，电解槽上侧设置有连通溢流管的溢流槽，所述的溢流管上设置有开关阀门和流量计，所述的开关阀门和流量计连接PLC控制柜，PLC控制柜内设置有与导电铜排连接的整流电源，所述的循环槽内设置有循环泵，所述的电解槽底端设置有进液口，所述的进液口通过循环管连接循环泵；电解液可在电解过程中边循环流动边电解，最大程度保证了电解过程中电解液离子浓度均匀性，提高了电解效率和电解碲产品质量。
基本信息
专利标题 ：
一种碲电解沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021126510.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-17
授权号 ：
CN212640624U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
许顺磊宋朝文刘显杰丁刚强李玉龙
申请人 ：
中船重工黄冈贵金属有限公司
申请人地址 ：
湖北省黄冈市化工园黄州火车站
代理机构 ：
武汉凌达知识产权事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
刘念涛
优先权 ：
CN202021126510.0
主分类号 ：
C25B1/01
IPC分类号 ：
C25B1/01 C25B9/00 C25B15/021 C25B15/025
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25B
生产化合物或非金属的电解工艺或电泳工艺；其所用的设备
C25B1/01
产物
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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