一种应用于光器件的基板
授权
摘要
本实用新型公开了一种应用于光器件的基板，包括基板主体，所述基板主体顶部沿轴向方向设有凹槽，所述基板主体的侧面为圆柱面，所述基板主体底部为平面，且所述基板主体分设有第一点胶区、第二点胶区和防护区，所述第一点胶区与所述第二点胶区的凹槽内表面均为粗糙面，所述防护区的凹槽内表面为光滑面，所述凹槽、所述圆柱面以及所述基板主体的端面间相互呈圆弧倒角。基板底部平面的设计能够有效提高基板定位精度，避免点胶过程中基板滚动；将防护区和各点胶区的凹槽内表面分别设为光滑面和粗糙面不仅提高了基板的透光性，而且避免了因磨削造成的微裂纹和机械应力的弊端，圆弧倒角的设计降低破损率，从而实现基板的高可靠性的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种应用于光器件的基板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021142047.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-18
授权号 ：
CN212569203U
授权日 ：
2021-02-19
发明人 ：
何相平李建杰骆志财智健罗新华杜永建黄朋
申请人 ：
广州宏晟光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市从化河东北路93号
代理机构 ：
广州嘉权专利商标事务所有限公司
代理人 ：
谭英强
优先权 ：
CN202021142047.9
主分类号 ：
G02B6/36
IPC分类号 ：
G02B6/36 G02B6/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/36
机械连接装置
法律状态
2021-02-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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