一种光栅式反射扩束系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种光栅式反射扩束系统，包括光栅一和光栅二，所述光栅一水平设置，光栅二位于光栅一正上方且倾斜设置，平行光以光斑直径d，入射角度α入射到光栅一表面，光栅一的刻划线排布在XY平面上，沿X方向，光栅二的刻划线排布在YZ平面上,沿Y方向，光栅一和光栅二光束入射角度、光栅周期b、刻划高度c、光栅倾斜角度均相同，光斑直径d的范围是0.01mm到100mm，入射角度α的范围是0.001mrad到1rad，本实用新型光栅式反射扩束系统采用较少的镜片组成，且具有较高的效率，使用方便。
基本信息
专利标题 ：
一种光栅式反射扩束系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021152572.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-19
授权号 ：
CN212009178U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
艾中凯刘刚晏宗飞
申请人 ：
上海恒光智影医疗科技有限公司
申请人地址 ：
上海市奉贤区金碧路1998弄3号
代理机构 ：
北京专赢专利代理有限公司
代理人 ：
刘梅
优先权 ：
CN202021152572.9
主分类号 ：
G02B27/10
IPC分类号 ：
G02B27/10 G02B5/18
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/10
光束分解或组合系统
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
