密封结构
授权
摘要
本申请涉及密封技术领域，提供了一种密封结构，包括底座、上盖、支撑件及至少一层密封件，上盖与底座相互盖合并围合形成有用于收纳电子设备的收纳腔，密封件抵持于上盖的一端周缘与底座的一端周缘之间以使上盖与底座形成密封连接，且当密封件的层数大于1时，各密封件沿密封结构从内到外依次分布；支撑件抵持于上盖的一端周缘与底座的一端周缘之间，并用于至少对密封件沿第一方向进行限位；其中，上盖与底座沿第二方向相互盖合，第二方向与第一方向垂直。本申请提供的密封结构，能够将电子设备收纳于其中并进行密封处理，使得电子设备处于密封环境中，可以应用于户外及水中等各种场所。
基本信息
专利标题 ：
密封结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021176017.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-22
授权号 ：
CN212544316U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
李偲
申请人 ：
东莞华道企业管理咨询顾问有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市塘厦镇蛟乙塘宝石路2号1栋2单元816室
代理机构 ：
深圳中一联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
汪海琴
优先权 ：
CN202021176017.X
主分类号 ：
H05K5/06
IPC分类号 ：
H05K5/06 H05K5/02 H05K5/03
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
