一种谐振腔式高灵敏度纹影仪
授权
摘要
本实用新型公开了一种谐振腔式高灵敏度纹影仪，包括成像装置和谐振腔，所述谐振腔内设置有测试区域；当所述成像装置发出的平行光进入所述谐振腔，所述平行光经所述测试区域扰动后发生偏折得到偏折光，所述偏折光从所述谐振腔传输出来后经所述成像装置进行纹影图像记录。本实用新型的目的在于提供一种谐振腔式高灵敏度纹影仪，使得光束在谐振腔内来回反射，使光束多次受到流场扰动，加大光线偏折角，从而提高纹影仪的灵敏度，满足低密度流场的测量。
基本信息
专利标题 ：
一种谐振腔式高灵敏度纹影仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021261944.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-01
授权号 ：
CN212459371U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
刘光海龙本兰杨义乐
申请人 ：
四川物科光学精密机械有限公司
申请人地址 ：
四川省绵阳市游仙经济开发区凯越路1号
代理机构 ：
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张超
优先权 ：
CN202021261944.1
主分类号 ：
G01N21/01
IPC分类号 ：
G01N21/01 G01N21/45
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/01
便于进行光学测试的装置或仪器
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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