比浊测量装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种比浊测量装置,包括:前光输出功率小于或等于0.2毫瓦的前光组件,所述前光组件包括:光源、用于限制所述光源发出的光束的小孔光阑、用于对所述光源发出的光束准直整形的准直透镜及用于控制光斑大小的光斑限制光阑,所述准直透镜位于所述小孔光阑背向所述光源的一侧,所述光斑限制光阑位于所述准直透镜背向所述小孔光阑的一侧;反应池,所述反应池的一面朝向所述光斑限制光阑背向所述准直透镜的一面;压紧块,所述压紧块具有透射隧道及散射收集隧道;对所述散射收集隧道内的散射光进行收集的散射收集部件;对所述透射隧道内的透射光束进行吸收的吸收部件。上述比浊测量装置,有效确保了光源的使用寿命;确保测量效果。

基本信息
专利标题 :
比浊测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021264328.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-30
授权号 :
CN213121625U
授权日 :
2021-05-04
发明人 :
章涛汪东生
申请人 :
深圳迈瑞生物医疗电子股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区高新技术产业园区科技南十二路迈瑞大厦1-4层
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
李赫
优先权 :
CN202021264328.1
主分类号 :
G01N21/82
IPC分类号 :
G01N21/82  G01N21/47  G01N21/03  G01N33/53  G01N33/50  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/75
材料在其中经受化学反应的系统,测试反应的进行或结果
G01N21/77
观察对化学指示剂的作用
G01N21/82
产生沉淀或混浊
法律状态
2021-05-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213121625U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332