纹理膜及手机后盖

授权

摘要

本实用新型涉及一种纹理膜及手机后盖，一种纹理膜包括纹理层、反射层、硬化层及AF层；纹理层设于基材上，纹理层呈凹凸不平状；反射层设于纹理层上，硬化层设于反射层上，AF层设于硬化层上。手机后盖包括基材及纹理膜，使得手机后盖表面具有凹凸不平的手感，有效提高用户的手与手机之间接触的稳定性，使得手机不易从用户手中滑落，有效保护手机。通过在纹理层上镀制一层反射层，使得手机后盖在灯光下或有光的环境下产生光影叠加、交错的光学效果。通过在反射层上镀制一层硬化层，有效保护纹理层及反射层与外界物体接触时不被碰坏。通过在硬化层上镀制一层AF层，有效防止用户的指纹印和其他的污渍沾至纹理膜上。

基本信息

专利标题：

纹理膜及手机后盖

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021290374.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-03

授权号：

CN212785435U

授权日：

2021-03-23

发明人：

易伟华张迅刘明礼康利孙如洪华俊

申请人：

江西沃格光电股份有限公司

申请人地址：

江西省新余市高新技术产业开发区西城大道沃格工业园

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

姚莉娟

优先权：

CN202021290374.9

主分类号：

H04M1/02

IPC分类号：

H04M1/02 H04M1/18