一种X荧光分析专用成套熔融铂金坩埚
授权
摘要
本实用新型涉及一种X荧光分析专用成套熔融铂金坩埚，其特征在于，包括：至少一熔样坩埚和至少一成型坩埚，所述熔样坩埚或成型坩埚为铂金材质，所述熔样坩埚或成型坩埚为上宽下窄的锅型，底边厚度大于侧部厚度，所述底边与侧部内侧之间的连接处设置有倒角，所述侧部外侧设置有一圈安装边。本实用新型X荧光分析专用熔融铂金坩埚适合于马弗炉中进行熔样，制成的熔片具有表面光滑、样品均匀等优点，非常适合X荧光分析的准确成分分析。
基本信息
专利标题 ：
一种X荧光分析专用成套熔融铂金坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021365101.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-13
授权号 ：
CN212748768U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
潘彪郭晓明
申请人 ：
上海精谱科技有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区西冈身路569号
代理机构 ：
上海天翔知识产权代理有限公司
代理人 ：
吕楚姗
优先权 ：
CN202021365101.6
主分类号 ：
G01N23/223
IPC分类号 ：
G01N23/223 G01N23/2202 B01L3/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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