一种电解铜箔高效溶铜装置
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摘要

一种电解铜箔高效溶铜装置,包括溶铜罐、与溶铜罐连通的铜料加料装置、液体添加管道和供氧系统,所述铜料加料装置包括密封盖板、铜料预加腔和密封隔板,密封盖板盖设在铜料预加腔上,密封隔板设置在铜料预加腔和溶铜罐之间,铜料预加腔上设有出气阀,本实用新型在加料的过程中,密封盖板和密封隔板之间形成密封状态,可抽真空或者更换空气,有效防止气体杂质进入溶铜罐内,提高了溶铜的速度和纯度。

基本信息
专利标题 :
一种电解铜箔高效溶铜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021375296.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-14
授权号 :
CN212800565U
授权日 :
2021-03-26
发明人 :
肖柱陆冰沪李大双郑小伟张玉芳
申请人 :
安徽铜冠铜箔集团股份有限公司;中南大学
申请人地址 :
安徽省池州市经济技术开发区清溪大道189号
代理机构 :
长沙大珂知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
孙雪梅
优先权 :
CN202021375296.2
主分类号 :
C25D1/04
IPC分类号 :
C25D1/04  C25D7/06  C25D21/14  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D1/00
电铸
C25D1/04
丝;带;箔
法律状态
2021-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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