一种具有防碰撞结构的检漏仪
授权
摘要
本实用新型属于检漏仪技术领域,具体公开了一种具有防碰撞结构的检漏仪,包括检漏仪壳体、移动基座和弹性包覆层;检漏仪壳体外部设置有弹性包覆层,弹性包覆层内部填充有缓冲减震层,缓冲减震层与弹性包覆层之间形成充气膨胀腔;通过缓冲减震层保护检漏仪壳体,充气膨胀腔形成隔离层,能够进一步缓冲震动,如果弹性包覆层出现损坏,能够第一时间通过充气膨胀腔发现损坏情况,进行修复;通过测距传感器检测检漏仪壳体与周围环境中障碍物的距离,发现障碍物的距离值可能造成碰撞时,通过控制器调整驱动电机,驱动电机带动转动支轴向检漏仪壳体外侧转动,使得防撞块末端到检漏仪壳体的距离大于安全距离值,防止检漏仪壳体碰撞。
基本信息
专利标题 :
一种具有防碰撞结构的检漏仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021411706.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-16
授权号 :
CN212646004U
授权日 :
2021-03-02
发明人 :
冉振为洪荣丰郭炳汉曹大阳杨效汪浩
申请人 :
深圳华尔升智控技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区华霆路5号厂房B栋1层-2层
代理机构 :
合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
张海燕
优先权 :
CN202021411706.4
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-03-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN212646004U.PDF
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