一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,属于真空灭弧室技术领域,其包括瓷壳,所述瓷壳内设置有屏蔽筒,所述屏蔽筒的内壁镀覆有加强垫,所述屏蔽筒外壁的上方与压板的内壁固定连接,所述压板插接在限位槽内。该真空灭弧室屏蔽筒的固定结构,上方密封环向下移动的过程中挤压下方密封环,相互紧密贴合的密封环进一步提高密封的效果,并且将顶盖与端盖进行铸焊作业,即可实现对屏蔽筒的整体密封,通过密封垫、橡胶隔层、密封环和密封块之间的相互配合,将该真空灭弧室各个部件进行固定密封并且再通过铸焊的方式对其进行密封处理,进一步提高了对整体真空灭弧室密封的效果,十分适用。

基本信息
专利标题 :
一种真空灭弧室屏蔽筒的固定结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021472801.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-23
授权号 :
CN212322896U
授权日 :
2021-01-08
发明人 :
周倜王清华
申请人 :
湖北大禹汉光真空电器有限公司
申请人地址 :
湖北省孝感市黄陂西路特1号
代理机构 :
上海精晟知识产权代理有限公司
代理人 :
刘宁
优先权 :
CN202021472801.5
主分类号 :
H01H33/664
IPC分类号 :
H01H33/664  H01H33/662  H01H11/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01H
电开关;继电器;选择器;紧急保护装置
H01H33/00
带有灭弧或防弧装置的高压或大电流开关
H01H33/60
不包括单独为产生或增强灭弧流体流动装置的开关灭弧或防弧装置的开关
H01H33/66
真空开关
H01H33/664
触点;灭弧装置,例如灭弧环
法律状态
2021-01-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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