一种石英晶体谐振器真空镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种石英晶体谐振器真空镀膜装置，涉及真空镀膜技术领域。本实用新型包括支撑架和箱体，支撑架的左侧上方固定连接有箱体，箱体的内部上下两侧壁之间转动连接有轴杆，轴杆的侧壁上均连接有支撑板，支撑板的下表面开设有第一安装槽，第一安装槽内连接有加热机构，支撑板的上表面开设有第二安装槽，第二安装槽内连接有夹紧机构，真空泵上固定连接有真空管，真空管的另一端固定连接在箱体的右侧壁上。本实用新型通过将支撑板均匀固定连接在轴杆上，使得支撑板上的石英晶体谐振器在镀膜时，磁控靶能够扫射的面积更广，进而使得石英晶体谐振器的缝隙中也能够进行镀膜，使得石英晶体谐振器表面的镀膜更加完整。
基本信息
专利标题 ：
一种石英晶体谐振器真空镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021552892.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
CN212293736U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
屈明明王波袁林花温从众
申请人 ：
马鞍山恒明电子科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省马鞍山市慈湖高新区霍里山大道北段1669号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021552892.3
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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